氮化钛有很高的性价比，用于延长一般刀、模具的使用寿命，在切割较软金属如：铜、低碳钢时性能尤为突出。

涂层元素：TI，N 薄膜硬度：2300 HV

涂层厚度：2-6μm 摩擦系数：0.4

适用温度：600℃ 涂层颜色：金黄色

1.硬度高，提高材料表层硬度；

2.降低材料的化学亲和性，防止加工中的粘着损伤，提升材料抗磨损性能；

3.颜色指示，方便工程人员及时发现损坏。

1.普通刀具；

2.常规注塑模具及标准件；

3.低硬度、薄壁冲压；

4.汽车零部件；

5.医疗器械；

6.食品行业。

PVD160弧涂层设备（专业：c-TA  st-AC）、PVD电弧（多弧）涂层设备（专业：T  p-CR）、PVD离子束涂层设备（专业：sl-C  p-TC）

PVD160弧涂层设备（专业：c-TA  st-AC）电弧蒸发源，采用可变脉冲电磁+永磁设计，使弧斑更细、运动更快、覆盖面更大、弧斑数量更多，有效抑制液滴，设备搭载着气体离子刻蚀技术，通过强有力的离子刻蚀技术可进行大范围的刻蚀，清除清洗等前处理难以清除深沟处的污垢，提高涂层附着力，降低因附着力低导致的产品不良。

PVD电弧（多弧）涂层设备（专业：T  p-CR）具有沉积速度快、离化率高、离子能力大、膜层结合力好、设备操作简单、运行成本低、生产效率高，该设备主要用于金属表面直接镀膜，结合离子辅助等功能，可用到产品直接表面打底和表层镀到金属膜、氮化膜、氧化膜等化合膜，专利电弧阴极设计使薄膜具有表面光滑、硬度高、耐摩擦及膜层致密等特点。

PVD离子束涂层设备（专业：sl-C  p-TC）主要用于模具、刀具或汽车、缝纫机等零配件表面沉积耐磨涂层和润滑涂层、涂层产品表面硬度可大幅提高、达到2000HV以上，并拥有极低的摩擦系数（0.1-0.2），明显减少加工中产生的刮痕及摩擦，大幅提高产品质量；低温涂层成膜技术，可制备金属及非金属膜层。