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氮化铬涂层(CrN)

产品系列:PVD涂层

发布日期:2024-06-25

氮化铬涂层(CrN)应用在低粘黏,高硬度,耐磨损的场合,如冲压模具,粉末冶金模具,注塑模具等。与氮化钛涂层相比,它对水质溶液的抗腐蚀性更强。氮化铬涂层内应力低,可以做得较厚。

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产品介绍

应用在低粘黏,高硬度,耐磨损的场合,如冲压模具,粉末冶金模具,注塑模具等。与氮化钛涂层相比,它对水质溶液的抗腐蚀性更强。氮化铬涂层内应力低,可以做得较厚。

 

 

膜层参数

 

涂层元素:Cr,N 涂层硬度:1800 HV

涂层厚度:2-6μm 摩擦系数:0.35

适用温度:700℃ 涂层颜色:银灰色

 

 

涂层特性

 

1.优异的耐腐性,提高材料在腐蚀环境下的耐受性能;

2.优异减磨耐损涂层,提高部件的摩擦学性能;

3.用于镜面、蚀纹面产品表面保护;

4.低化学亲和性,易于与常规材料剥离,提高产品的脱模性能;

5.材料获得过程环保,不会有价键Cr离子。

 

 

应用领域

 

1.滑动摩擦部件;

2.汽车活塞环;

3.注塑模具型腔及滑动配件;

4.高镜面模具。

 

 

涂层设备

 

PVD160弧涂层设备(专业:c-TA  st-AC)、PVD电弧(多弧)涂层设备(专业:T  p-CR)、PVD离子束涂层设备(专业:sl-C  p-TC)


PVD160弧涂层设备(专业:c-TA  st-AC)电弧蒸发源,采用可变脉冲电磁+永磁设计,使弧斑更细、运动更快、覆盖面更大、弧斑数量更多,有效抑制液滴,设备搭载着气体离子刻蚀技术,通过强有力的离子刻蚀技术可进行大范围的刻蚀,清除清洗等前处理难以清除深沟处的污垢,提高涂层附着力,降低因附着力低导致的产品不良。


PVD电弧(多弧)涂层设备(专业:T  p-CR)具有沉积速度快、离化率高、离子能力大、膜层结合力好、设备操作简单、运行成本低、生产效率高,该设备主要用于金属表面直接镀膜,结合离子辅助等功能,可用到产品直接表面打底和表层镀到金属膜、氮化膜、氧化膜等化合膜,专利电弧阴极设计使薄膜具有表面光滑、硬度高、耐摩擦及膜层致密等特点。


PVD离子束涂层设备(专业:sl-C  p-TC)主要用于模具、刀具或汽车、缝纫机等零配件表面沉积耐磨涂层和润滑涂层、涂层产品表面硬度可大幅提高、达到2000HV以上,并拥有极低的摩擦系数(0.1-0.2),明显减少加工中产生的刮痕及摩擦,大幅提高产品质量;低温涂层成膜技术,可制备金属及非金属膜层。


 

 

 

客服热线

13906627601